2、温度： 正常的情况下，电解液温度控制比较严格， 有的需用保持在±1℃范围内，溶液温 度高，氧化膜溶解速度大，生成的速度 减小，生成的膜疏松。若温度过低，氧 化膜发脆易裂。当控制温度 在18-22℃时，得到的氧化膜多孔，吸 附性强，富有弹性，抗蚀性好，但耐磨 性较差；
槽液温度是阳极氧化一个重要工艺参数,为确保 氧化膜的质量和性能要求恒定,一般需严控 在选定温度±(1~2)℃范围内,控制和冷却槽液 温度有下列四种方法: ①冷冻机中的致冷剂与安装在氧化槽内的蛇形管 连通直接冷却; ②用蛇形管间接冷却装置,即冷冻机冷却冷水池中 的水,再用水泵将冷水打入氧化槽中蛇形管内冷 却槽液; ③冷冻机中的致冷剂借助热交换器冷却槽液循环 系统中的槽液; ④用槽液循环系统间接冷却装置,即冷冻机冷却冷 水池中的水,再用冷水借助热交换器冷却槽液循 环系统中的槽液.
E、H2SO4物理性质： 物理性质： ①98.3%的浓H2SO4，是无色粘稠状 液体,沸点338度,是一种难挥发性的酸 ②化学性质： 化学性质： a.强酸性； 强酸性； b.易与活泼金属反应； 易与活泼金属反应； c.浓H2SO4具有吸水性， 具有吸水性，结合水后放 出大量的热， 出大量的热，常温下， 常温下， 浓H2SO4遇铁、 遇铁、 铝合金发生钝化。 铝合金发生钝化。
时间：视详细情况而定 10分-50分 搅拌：压缩空气搅拌 电源：直流电/交流电
1、硫酸电解液的配制； A.根据槽体的容积和硫酸浓度计算所需硫酸量 B.在槽内加3/4体积纯水,并打风搅拌； C.将硫酸缓缓加入槽内，并补充纯水至规定体 积(注意切勿将水加入硫酸中） D.冷却至工艺条件温度； E.化验室取样分析,OK后即可投入生产 2、硫酸的纯度要求： 最好用试剂，我们一般用CP（化学纯） 硫酸。
1、溶液稳定； 2、允许杂质含量范围大； 3、电能消耗少； 4、操作便捷； 5、成本低； 6、要求温度低，须冷冻.
(四）常见故障及分析: (1)铝合金制品经硫酸阳极氧化处理后,发生局 部无氧化膜,呈现肉眼可见的黑斑或条纹,氧化 膜有鼓瘤或孔穴现象.此类故障虽不多见但也 有发生. 上述故障原因,一般与铝和铝合金的成分、 一般与铝和铝合金的成分、组织 及相的均匀性等有关， 及相的均匀性等有关，或者与电解液中所溶解 的某些金属离子或悬浮杂质等有关。 的某些金属离子或悬浮杂质等有关。铝和铝合 金的化学成分、 金的化学成分、组织和金属相的均匀性会影响 氧化膜的生成和性能。 氧化膜的生成和性能。纯铝或铝镁合金的氧化 膜容易生成， 膜容易生成，膜的质量也较佳。 膜的质量也较佳。而铝硅合金或 含铜量较高的铝合金， 含铜量较高的铝合金，氧化膜则较难生成， 氧化膜则较难生成，且 生成的膜发暗、 生成的膜发暗、发灰、 发灰、光泽性不好。 光泽性不好。
2、氧化膜的生长过程： 总体上说包含两个方面： 一是膜的生成过程； 二是膜的电化学溶解过程.
A.通电瞬间,氧和铝有很大亲和力,铝基 材迅速形成一层致密无孔的阻挡层,其 厚度取决于槽电压。 B.由于氧化铝原子体积大，故发生膨 胀，阻挡层变得凹凸不平，造成电流 分布不均匀，凹处电阻小，电流大， 凸处相反。 C.凹处在电场作用下发生电化学溶解 以及H2SO4的化学溶解，凹处逐渐变 成孔穴，凸处变成孔壁，阻挡层向多 孔层转移。
注：铝的阳极氧化是以铝或铝合金作阳极,以铅板 作阴极在硫酸、 作阴极在硫酸、草酸、 草酸、铬酸等水溶液中电解， 铬酸等水溶液中电解， 使其表面生成氧化膜层。 使其表面生成氧化膜层。其中硫酸阳极氧化处 理应用最为广泛。 理应用最为广泛。铝和铝合金硫酸阳极氧化氧 化膜层有较高的吸附能力， 化膜层有较高的吸附能力，易进行封孔或着色 处理， 处理，更加提高其抗蚀性和外观。 更加提高其抗蚀性和外观。阳极氧化膜 层一般3-15um，铝合金硫酸阳极氧化工艺操 作简单， 作简单，电解液稳定， 电解液稳定，成本也不高， 成本也不高，是成熟的 工艺方法， 工艺方法，但在硫酸阳极化过程中往往免不了 发生各种故障， 发生各种故障，影响氧化膜层质量。 影响氧化膜层质量。认真总结 分析故障产生的原因并采取比较有效预防的方法， 分析故障产生的原因并采取比较有效预防的方法，对 提高铝合金硫酸阳极氧化质量有重要的现实意 义。
C、阳极氧化分类： ①硫酸阳极氧化； ②草酸阳极氧化； ③铬酸阳极氧化； ④磷酸阳极氧化； ⑤瓷质阳极氧化； ⑥硬质阳极氧化; ⑦微弧阳极氧化。
6、Al3含量： 3 电解液中Al 含量控制在0.5~5g/L时, 有助于氧化膜的抗蚀性和耐磨性, Al3 含量在5g/L以下时，膜层对染色吸附 3 能力变弱， Al 含量在5~15g/L时，氧 化膜吸附能力基本保持稳定，Al3含量 超出15g/L时，氧化膜会出现不规则现 象，且皮膜色泽发黄，膜层性能直线下降。 3 因此，为了染泽均匀， Al 含量 必须控制在5~12g/L之间。
8、搅拌影响： 搅拌影响： 因氧化膜电阻较大,在电流作 用下产生很高的焦耳热,如不及时 扩散,工件易被烧损,即使不烧烂, 生成的膜多疏松,甚至粉化。 甚至粉化。一般 采用压缩空气搅拌,用于搅拌电解 液的压缩空气一定要经过油水分离 器净化,以免污染槽液;
9、材质影响： 材质影响： 所谓材质不仅仅指合金成分, 还包括组织状态(热处理状态)和 表面加工状态。 表面加工状态。铝越纯,生成氧化 膜透明光亮,否则,氧化膜透明度和 光亮度越低,且抗蚀力越差,组织状 态或加工不同， 态或加工不同，形成氧化膜不均 匀。
B、槽液液面上的漂浮物和油 污应及时清除， 污应及时清除，脱落在槽 液中的铝工件和杂物应及 时捞起。 时捞起。 C、氧化槽液沉淀物较少， 氧化槽液沉淀物较少，一 般只需一年倒槽清底一 次， 此时应刷洗或更换阴极板。
当其他条件不变时， 当其他条件不变时，提高硫酸浓度， 提高硫酸浓度，氧化膜的 生长速度减慢， 生长速度减慢，这是由于生长中的氧化膜在较 浓的硫酸溶液中溶解速度加快的结果。 浓的硫酸溶液中溶解速度加快的结果。若硫酸 浓度太低， 浓度太低，导电性下降， 导电性下降，其氧化时间就要延长； 其氧化时间就要延长； 硫酸的浓度升高， 硫酸的浓度升高，有利於多孔膜的生成， 有利於多孔膜的生成，该膜 的弹性好， 的弹性好，吸附力强； 吸附力强；易获得防护装饰性氧化 膜，硫酸浓度多利用上限， 硫酸浓度多利用上限，即20%的H2SO4， 为了获得硬而厚的耐磨氧化膜， 为了获得硬而厚的耐磨氧化膜，应选用较稀的 硫酸溶液， 硫酸溶液，通常利用10%-15%的H2SO4。
在氧化膜上形 用去离子水 成黑色腐蚀斑点， 或蒸馏水配制 严重时铝制品表 槽液，并严格 面会发生穿孔而 控制清槽水质。 报废。
氧化膜透 明度变差,染 色性能直线下降, 耐蚀性、耐 磨性下降， 严重时会导 致工件烧蚀。
A、对槽液要定时进行分析， 对槽液要定期做多元化的分析，一般只分析游离 硫酸和铝含量。 硫酸和铝含量。槽液在使用的过程中， 槽液在使用的过程中，游离硫 酸浓度会逐渐下降， 酸浓度会逐渐下降，而铝含量上升， 而铝含量上升，当游离 硫酸浓度降到规定浓度下限， 硫酸浓度降到规定浓度下限，铝含量尚未升 到上限时， 到上限时，只需计量添加硫酸， 只需计量添加硫酸，但当铝含量 超过规定上限时， 超过规定上限时，应排放部分（ 应排放部分（1/4~1/3） 槽液， 槽液，然后再计量添加硫酸和去离子水。 然后再计量添加硫酸和去离子水。排 放的硫酸溶液可用耐酸泵抽入硫酸脱脂槽内 二次利用。 二次利用。降低氧化槽内的铝含量也可用硫 酸回收设备。 酸回收设备。
D.多孔膜形成过程： 1.阳极氧化初期，电流密度一般均超出临界电流密 度，形成均匀的壁垒型膜； 2.壁垒型膜逐渐成长。当电流密度低于临界值时， 铝离子不能再形成新膜物质，膜的表面暴露在电解 液中受到浸蚀； 3.进一步阳极氧化，溶液对膜的浸蚀变得不均匀； 4.形成的空洞之间有发展竞争。这种发展有“自 催化”作用； 5.发展较快的空洞(主空洞)在向膜深处和横向发展 6.主空洞继续沿纵向和横向发展，相邻主空洞之间 互相靠近，主空洞之间的小空洞停止生长； 7.空洞停止横向发展，仅沿纵向深入，孔径固定。 此时，空洞的产生及发展阶段结束，阳极氧化进入 稳态阶段。
2、电化学氧化： A.定义： 将铝及其合金置于某种适当 的电解液中作为阳极，在外电 流作用下，使其表面生成氧化 膜的过程称为阳极氧化，又称 电化学氧化。
B、阳极氧化膜的性质（ 阳极氧化膜的性质（与化学氧化膜 相比）： 相比）： ①氧化膜结构的多孔性; ②氧化膜的耐磨性; ③氧化膜的抗蚀性； 氧化膜的抗蚀性； ④氧化膜的电绝缘性； 氧化膜的电绝缘性； ⑤氧化膜的绝热性； 氧化膜的绝热性； ⑥氧化膜的结合力； 氧化膜的结合力； ⑦氧化膜的硬度高； 氧化膜的硬度高； ⑧氧化膜的装饰性。 氧化膜的装饰性。
7、电流密度： 电流密度： 电流密度越大， 电流密度越大，膜较硬， 膜较硬，耐磨性 好，但电流密度过高， 但电流密度过高，则会因焦耳 热影响， 热影响，使膜层溶解作用增加， 使膜层溶解作用增加，电 流密度过高， 流密度过高，膜层氧化时间过长， 膜层氧化时间过长， 膜疏松， 膜疏松，硬度降低， 硬度降低，对于需染色或 电解着色的氧化膜， 电解着色的氧化膜，电流密度宜取 1.5A/dm2~2.0A/dm2,装饰性阳极氧 2 化膜电流密度宜取0.5~0.8A/dm ;
一、氧化目的： 使产品有耐腐蚀、 使产品有耐腐蚀、耐 磨性的效果， 磨性的效果，并且有一定 的装饰性， 的装饰性，从而实现用户 的需求。 的需求。
二、氧化种类： 1、化学氧化： A.定义：将铝及其合金置于某种适 当的化学药液中进行化学反应的过 程称化学氧化。 B.性质：氧化膜较薄(厚度为0.54um)多孔有良好的吸附能力,质软不 耐磨、抗蚀性低于阳极氧化膜，一 般作为涂装的底层（如白色钝化、 金黄色钝化）。
3、电压： A、电压高，氧化膜生长速度提高，孔 隙增多，易染色，硬度和耐磨性提高。 B、电压低，生成氧化膜的速度慢，膜 层较致密。
4、氧化时间： 根据硫酸浓度，溶液温度、电压， 膜厚而定，其它条件不变，时间越 长，膜厚越厚，但达到一定厚度时， 膜厚将不会增加（即膜的溶解速度 与生长速度相等）。
5、杂质离子影响： 有几率存在的杂质离子：CL¯、F ¯、 NO3 ¯、AL3﹢、CN2 ﹢ 、 Fe 2 ﹢ 、 2 ﹢ Si 等 A、 CL¯、F ¯、NO3 ¯等阴离子含量 高时，氧化膜孔隙增加表面粗糙、 疏松。CL¯﹤0.05g/L F ¯ ﹤0.01g/L 3 ﹢、 2 ﹢ 2 ﹢ B、 AL CN 、Si 主要影 响氧化膜色泽，透明度和抗蚀性。
升温至 40~50℃,在 搅拌条件下加 入硫酸铵,变 成硫酸铝铵去 除,也可通过 稀释或更换槽 液的方法除去. 用电解处 理法使铜在阳 极上析出,平 时可用刷法阳 极的方式减小 累积
